| 초록 |
광경화성 고분자는 반도체와 디스플레이를 포함한 전자제품 산업에서 널리 응용되고 있다. 하지만 기존의 광경화성 고분자들은 투명성과 내열성이 높지 않아 개선될 필요가 있다. 본 연구에서는 cyclohexane을 포함하여 투명성이 높고 내열성을 높일 수 있는 aromatic 그룹이 포함된 기존 에폭시 수지에 광경화 특성을 부여하기 위하여 cinnamate group을 가진 t-cinnamic acid, 3-hydroxy t-cinnamic acid 등을 도입하였다. 또한 내열성을 더욱 향상시키기 위해 aromatic ring을 포함한 cinnamoyl chloride를 치환기로써 첨가하여 내열성과 투명성을 극대화 한 새로운 고분자를 합성하였다. 에폭시와 cinnamate group을 THF용액에 75℃에서 50시간 교반 후, aromatic ring을 포함한 치환기를 첨가하여 30℃에서 다시 12시간 교반하였다. 합성된 고분자를 quartz glass에 스핀 코팅하여 박막을 제조하였다. 스핀 코팅한 고분자막은 70℃에서 30분간 pre-curing 후 254, 365nm UV lamp로 20분 동안 경화시켰다. 경화된 고분자 필름의 투명성은 UV-Vis spectroscopy를 이용하여 측정하였고, 내열성을 조사하기 위해서 TGA를 이용하여 측정하였다. |
