| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (04/10 ~ 04/11, 컨벤션 뷰로(대전)) |
| 권호 | 33권 1호 |
| 발표분야 | 플렉시블 디스플레이 소재 |
| 제목 | RF magnetron sputtering에 의해 제조된 ITO 박막의 특성 및 열처리에 의한 특성 변화 |
| 초록 | ITO(Indium Tin Oxide)는 현재 반도체 공정에서 가장 많이 사용되고 있는 투명전도성 산화물로 가시광 영역에서 광투과도가 높고 낮은 저항을 가지고 있을 뿐 아니라 화학적 안정성이 뛰어나 다양한 분야에 응용되고 있다. 본 연구에서는 RF magnetron sputtering법을 이용하여 내열성이 뛰어난 PES(Polyether sulfone) 필름(200㎛) 기판 위에 ITO를 증착하였으며, 스퍼터 파워, 공정 압력, Ar/O2 유량비 등의 공정조건에 따라 제조된 ITO 박막의 표면형상, 거칠기, 결정성, 표면저항, 광투과율 등의 특성 변화를 살펴보았다. 또한, ITO 박막이 증착된 필름이 반도체의 여러 제조 공정을 거치면서 다양한 온도에 노출되므로 열에 의한 ITO 박막의 특성 변화를 알아보기 위하여 ITO가 증착된 PES 필름을 열처리하여 온도 및 시간에 따른 ITO 박막의 특성 변화를 관찰하였다. |
| 저자 | 김도균1, 곽순종1, 송광호2 |
| 소속 | 1한국과학기술(연), 2고려대 |
| 키워드 | ITO; 투명전도막; 디스플레이 |
