| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2006년 봄 (05/19 ~ 05/20, 경상대학교 ) |
| 권호 | 12권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | DC-Manetron Sputtering에 의한 Ni 박막 증착 및 Ni nanoparticle의 제어 |
| 초록 | 열 화학기상증착법으로 CNT를 합성하기 위해서는 촉매금속이 반드시 필요하게 된다. 촉매금속으로는 보통 Ni, Co, Fe등이 사용된다. 본 실험에서는 Ni을 DC-Manetron Sputtering을 이용하여 5.0 × 10-6 Torr이하의 진공도를 초기진공으로 하고, Ar기체을 주입하여 5.0 ×10-2 Torr로 압력을 일정하게 조절한 분위기에서 10nm이하의 두께로 증착하고, 열처리를 통해서 입자화를 시켰다. 기판으로는 Si/SiO2(500nm)을 사용하였고, 열처리는 800℃ ~ 900℃로 10 ~ 30분동안 시행하였다. 분위기 가스로는 H2가스를 사용하였다. SEM, ATM, EDS를 이용하여 박막의 표면과 단면을 관찰하여, 열처리 온도와 시간에 따라 입자의 밀도, 크기가 변화됨을 알 수 있었다. |
| 저자 | 백기종, 이은경, 김남철 |
| 소속 | 공주대 |
| 키워드 | DC-Sputtering; Catalystic Metal; CNT; Ni |
