| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2005년 봄 (05/26 ~ 05/27, 무주리조트) |
| 권호 | 11권 1호 |
| 발표분야 | 반도체재료 |
| 제목 | 나노임프린트 리소그래피를 이용한 Gold nano dot 패턴 형성에 대한 연구 |
| 초록 | 나노임프린트 리소그래피는 나노구조물을 대면적에 손쉽고 빠르게 형성시킬수 있는 가장 유망한 기술로서 NT, BT, IT등 많은 분야로 응용이 가능하다. 나노임프린트 리소그래피 기술의 기본원리는 고분자를 유리전이 온도 이상으로 가열하여 충분히 soft하게 만든후 나노패턴이 있는 stamp로 눌러주어서 나노패턴을 그대로 전사시킨다. 최근에는 이러한 Hot embossing type의 나노임프린트 외에 UV 또는 열에 경화되는 고분자를 이용하여 저압 및 저온에서 나노 구조물을 형성시키고 있다. 이논문에서는 Thermally curable resin을 이용하여 200~500nm 크기의 구조물을 잔여층 없이 형성하였고 이후 Thermal evaporation과 Lift-off 공정을 통하여 Gold nano dot pattern을 형성하였다. (나노임프린트리소그래피를 통해 형성된 Gold nano dot array) |
| 저자 | 홍성훈, 양기연, 이헌 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | Nanoimprint Lithography; Nano structure |
