| 초록 |
고분자 유연기판을 사용하는 광소자는 현재 투명전극으로 높은 투과도와 낮은 저항을 가지는 ITO가 사용되고 있으며 이는 Sputtering과 E-beam에 의하여 증착될 수 있다. 고분자 유연기판은 낮은 열 변형 온도를 가지고 있어 증착공정은 저온에서 이루어져야 되며 이에 얻어지는 ITO는 무정형 형태를 갖는다. ITO는 결정화가 진행되면 투과도는 증가하고, 저항은 감소하게 된다. 이러한 결정화 거동은 증착공정 시의 기판의 온도와 산소분압 그리고 기판에 표면 특성에 따라 달라지게 된다. 본 연구에서는 E-beam을 이용하여 다양한 고분자 유연기판위에 ITO를 증착하고 이들의 증착조건 및 기판 특성이 열처리 시 ITO의 결정화에 미치는 영향을 확인하고자하였다. 결정화도의 측정은 XRD를 이용하였고, UV-VIS과 표면저항 측정기로 투과도와 표면저항을 각각 측정하여 ITO의 결정화가 ITO 특성에 미치는 영향을 확인하였다. 연구결과, 적정 산소분압 하에서 기판의 온도가 증가됨에 따라 결정화도가 증가되며 그 결과, 면 저항 의 감소 및 투과도의 증가가 일어남을 알 수 있었다. 유연기판의 표면 거칠기 및 특성 또한 ITO의 결정화에 영향을 미침을 확인 할 수 있었다. |
