| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1996년 가을 (10/18 ~ 10/19, 경북대학교) |
| 권호 | 2권 2호, p.1385 |
| 발표분야 | 공업화학 |
| 제목 | 다공성 실리콘의 미세구조 형성과정에 관한 연구 |
| 초록 | 현재까지의 연구결과에 의하면 다공성 실리콘은 식각용액의 농도 및 실리콘의 불순물 종류 및 농도 및 인가 전류와 식각 시간에 따라 Pore 크기에 따라 macro porous, meso porous, micro porous 등의 구조를 가지는 것으로 알려져 있다. 본 연구에서는 FTIR에 의한 표면분석 및 SEM을 이용한 구조 분석을 통하여 다공성 실리콘을 Anodic etching에 의해 제조하는 경우에 관련된 여러 가지 조건의 영향에 대한 연구를 수행하였다. 특히 식각 시간의 변화에 따른 다공성 실리콘의 구조 분석을 통하여 다공층 형성에 일정한 주기성이 존재한다는 새로운 결과를 관찰하였다. |
| 저자 | 이창기, 조성민 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | Porous silicon; anodic etching; SEM |
| 원문파일 | 초록 보기 |
