| 초록 |
반도체 및 디스플레이 공정에서 사용되는 pleated형 filter의 개발을 위하여 비지지체형 polyether sulfone(PES) 평판형막(MF)을 제조하였다. 평판형 분리막 제조 시 일반적으로 사용되는 기술인 상전이 공정(phase inversion process)은 적정 용매에 녹인 고분자 용액을 비용매의 침전조 넣어 용매와 비용매 간의 상호교환에 의해 상분리를 일으키는 공정이다. 이 때 고분자 용액 내의 고분자는 matrix를 형성하고 잔존하는 용매 및 비용매는 제거되어 기공을 형성하게 된다. 본 연구에서는 상전이 공정을 이용하여 분리막의 성능을 결정짓는 skin layer 에서의 기공의 크기 및 sublayer의 구조를 제어하기 위해 고분자 용액 내 비용매의 종류 및 함유량, 응고조의 조성 및 침전시간에 따른 영향을 비교하였으며, 이를 정량적으로 해석하기 위해 상분리도, solubility parameter 및 coagulation value 등의 변수를 이용하였다. 용매로는 n-methyl-2-pyrrolidone(NMP)와 N,N-dimethyl formamide(DMF)를 사용하였고 첨가제로서 친수성 화합물인 polyvinylpyrrolidone(PVP)을 사용하였다. 막의 구조, 다공도의 변화 및 기공의 크기를 조사하기 위해 SEM을 이용하였으며, 수투과도 및 여과성능 측정법으로 막의 성능을 평가하였다. |
