| 초록 |
최근, 8000 K 이상의 초고온 플라즈마와 105 K/s 이상의 급랭율을 이용하여, 산화물 혼합체를 순간적으로(10 ms 이내) 증발시켜 원자 수준에서 재조합함으로써, 나노 크기의 복합물질을 대량으로 제조하는 RF 열플라즈마법이 주목을 받고 있다. 합성된 산화물 나노입자는 재래의 습식법으로 제조된 것과 비교하여 결정성이 뛰어나고 다양한 종류의 원자들을 고용시킬 수 있어서 In2O3, SnO 및 ZnO 등과 같이 여러가지 산화물로 구성되는 투명도전성 산화물 합성에 유리할 수 있다. 본 논문에서는 200 kW 급 고출력 RF 열플라즈마토치 시스템을 사용하여, IZTO (Indium Zinc Tin Oxide), GZO (Ga doped ZnO), AZO (Al doped ZnO) 및 IZO (Indium Zinc Oxide) 와 같은 다양한 종류의 투명도전성 산화물 나노분말을 각각의 원료분말로부터 합성하고, 합성된 나노분말과 이를 이용한 Sputter 타겟재의 특성을 평가하였다. 나아가, 제조된 타겟재를 활용, RF magnetron Sputtering 에 의한 도전 박막을 형성하고 박막의 전기적, 광학적 특성을 조사함으로써, 새로운 투명도전성 산화물 나노분말 제조법으로서 플라즈마법의 응용가능성을 살펴보았다. |
