| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2018년 가을 (10/31 ~ 11/02, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)) |
| 권호 | 22권 2호 |
| 발표분야 | 화학공정_포스터 |
| 제목 | 고순도 TiCl4 제조를 위한 불순물 제거 연구 |
| 초록 | TiCl4는 rutile 광석의 염소화를 통해 제조되는 물질로서, 주로 Ti 및 TiO2의 전구체로 사용된다. Ti는 생체재료, 항공 재료와 같은 첨단산업에 사용되고 있으며 TiO2는 안료와 촉매와 같은 분야에서 사용되고 있다. 7N 이상의 TiCl4는 반도체 공정에서 TiN과 Ti silicide 코팅을 위한 재료로 이용되기도 한다. 정제 후 상용 TiCl4 경우 Sb, As, A과 같은 불순물을 주로 존재하며 반도체용으로 이용하기 위해서는 불순물이 제거되어야만 한다. TiCl4 내에 존재하는 대부분의 불순물은 여과 및 증류 등의 시스템에 의해서 분리가 가능하지만 TiCl4와 물리적 특성이 유사한 불순물의 경우에는 기존 공정으로 제거가 불가능하다. 따라서 Cu 및 활성탄을 이용하여 불순물 제거 연구를 하고자 한다. Gas 유량, 제거제의 종류 및 입도 등을 변수로 두고 실험을 진행하였으며 정제된 TiCl4는 ICP 분석을 통해 순도 및 제거율을 확인하였다. |
| 저자 | 이지은, 윤진호, 이찬기 |
| 소속 | 고등기술(연) |
| 키워드 | TiCl4; 고순도화 공정; Cu powder |
