| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2017년 봄 (05/17 ~ 05/19, 목포 현대호텔) |
| 권호 | 23권 1호 |
| 발표분야 | A. 전자/반도체 재료 분과 |
| 제목 | 수용액 기반의 미스트 CVD(mist-CVD) 방식을 통한 산화알루미늄(AlOx) 절연층 합성 |
| 초록 | 산화알루미늄은 우수한 열 안정성 및 넓은 밴드 갭 에너지를 갖고있으며 전형적인 높은 유전상수를 갖는 재료이다. 이러한 우수한 특성으로 인해 박막 트랜지스터의 절연층으로 사용할 수 있으며 유기발광 다이오드(OLED) 혹은 태양 전지의 패시베이션 층으로 사용하기에 적합하다. 기존의 대부분 산화 알루미늄 박막의 증착 방법으로 스퍼터링, 금속 유기 화학 기상 증착(MOCVD), 원자 층 증착법(ALD)등 진공 시스템으로 증착 되어져 왔으며 상압 증착 방법의 대표적인 스핀코팅 또한 많은 연구가 이루어졌다. 미스트 CVD(Mist-CVD)는 상압기반의 증착 방식으로써 진공 장비 대비 유지 비용과 제작비용이 저렴하여, 제작 과정이 간단하다는 장점이 있다. 또한 물, 아세톤과 에탄올 등 친환경적인 수용액을 사용하여 친환경적인 공정 방법중 하나이다. 본 실험에서는 미스트 CVD를 사용하여 증착온도에 따라 실리콘(Si) 기판에 산화 알루미늄을 합성한 후 박막 및 절연특성 변화를 관찰하였다. 증착온도가 250도에서 350도 증가함에 따라 항복전압은 7.5 MV/cm에서 8.9 MV/cm으로 증가하였으며 누설 전류또한 7MV/cm 기준으로 2.3 x 10-5A/cm2에서 2.7 x 10-9A/cm2으로 확연히 감소하였다. |
| 저자 | 김동현, 정현준, 박진성 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | <P>미스트 CVD; 산화알루미늄; 상압공정; 절연체; 수용액</P> |
