| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2008년 가을 (11/12 ~ 11/14, ICC 제주) |
| 권호 | 12권 2호 |
| 발표분야 | 화학공정 |
| 제목 | 초임계 이산화탄소 내에서 초음파를이용한 고이온 주입된 포토레지스트의 제거 |
| 초록 | 이온 주입에 의하여 경화된 탄화층을 가지는 포토레지스트는 통상적인 습식 또는 건식 처리로는 제거하기가 매우 어렵다. 초임계 건식 제거 방법은 초임계 이산화탄소 내에서 공용매 및 첨가제 등을 단순히 혼합하는 방법이 적용되어왔으나, 공용매 및 첨가제의 초임계 이산화탄소 혼합물이 오염물질을 완전히 용해하여 제거하기까지 많은 시간이 소요되고, 또한 불용성의 오염물질의 경우에 화학적인 메커니즘 만으로는 효과적인 제거가 어려운 단점이 있다. 본 연구에서는 초임계 이산화탄소를 이용한 고압 반응기 내부에 초음파 장비를 장착하여, 공용매 및 첨가제가 이산화탄소에 용해되는 시간을 단축시키며 상기 혼합물의 오염물질에 대한 용해성을 크게 증가시키고 물리적 진동을 제공하였다. 초음파와 함께 공용매를 사용하여 압력 4000psi, 온도는 70℃에서 3분간 처리 하였을 때, 포토레지스트를 100% 제거됨을 알 수 있었다. |
| 저자 | 김승호, 권홍석, 임권택 |
| 소속 | 부경대 |
| 키워드 | 초임계 이산화탄소; 공용매; 초음파; 고이온 주입된 포토레지스트 |
