| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2009년 가을 (10/15 ~ 10/16, 서울산업대학교 내 서울테크노파크) |
| 권호 | 13권 2호 |
| 발표분야 | 나노(포스터) |
| 제목 | 초임계 이산화탄소 내에서의 염기성 공용매와 초음파를 이용한 HDI 포토레지스트 제거 |
| 초록 | 초임계 이산화탄소는 낮은 표면장력, 빠른 물질전달의 특성에 의해 반도체 제조공정에서 기존의 습식공정의 대안으로 많은 연구가 진행되고 있다. 그리고 초임계 이산화탄소는 극성물질과 고분자 물질에 대해 낮은 용해도를 가지므로 소량의 유기용제를 같이 사용하여 극성물질에 대한 용해도를 증가시켜 효율을 증대시키기도 한다. 본 연구에서는 이온주입 후 탄화된 층을 가지는 포토레지스트를 초임계 이산화탄소를 이용하여 제거하기 위하여 여러 종류의 유기용제를 공용매로 사용하여 제거특성을 연구하고 공용매 농도, 처리 온도, 압력 변화에 의한 효과를 조사하였다. 그리고 초음파 장치를 이용해 공용매의 화학적 효과와 초음파의 물리적 효과를 중첩시키기 위한 실험을 진행하였다. |
| 저자 | 정재목, 김상재, 임권택 |
| 소속 | 부경대 |
| 키워드 | HDI PR; Stripping; scCO2; co-soluvent |
