| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2003년 봄 (04/11 ~ 04/12, 연세대학교) |
| 권호 | 28권 1호, p.250 |
| 발표분야 | 기능성 고분자 |
| 제목 | 옥심-우레탄 그룹을 가진 에폭시 고분자의 광가교반응 및 네가형 포토레지스트에 응용 |
| 초록 | 옥심-우레탄 그룹을 가진 고분자에 자외선을 조사하면 아민이 생성되고 자외선이 조사된 부분만 선택적으로 광가교 반응이 일어남으로 이 반응을 네가형 포토레지스트의 합성에 응용할 수 있다. 본 연구에서는 옥심-우레탄 그룹을 가지면서 빛에 민감한 네가형 포토레지스트를 합성하기 위하여 에폭시 그룹을 가진 단량체인 glycidyl methacrylate (GMA), 옥심-우레탄 그룹을 갖는 단량체인 methacryloyloxylethyl benzophenoneoxime urethane (MBU), 그리고 광증감 그룹을 가진 단량체로써 N-(4-benzoylphenyl)maleimide (BPMI)의 삼원공중합체를 합성한 다음 광증감 그룹과 옥심-우레탄 그룹이 에폭시 고분자의 광가교 반응에 미치는 영향을 관찰하였으며 네가형 포토레지스트로서의 응용성을 연구하였다. |
| 저자 | 박진희;채규호 |
| 소속 | 전남대 |
| 키워드 | |
