화학공학소재연구정보센터
학회 한국공업화학회
학술대회 2021년 봄 (05/12 ~ 05/14, 부산 벡스코(BEXCO))
권호 25권 1호
발표분야 포스터-나노
제목 In2O3 양자점으로 도핑된 multilayer ReS2 트랜지스터의 전기적 특성 분석
초록 최근 2차원 재료가 반도체 소자의 채널물질로 많은 주목을 받고 있으며, 밴드갭(band gap) 조절에 관한 연구 또한 관심을 끌고 있다. 도핑(doping)은 밴드갭을 조절할 수 있는 방법 중 하나로, 본 연구에서는 In2O3 양자점을 이용한 도핑을 제안하며, n-type 도펀트(dopant)로써의 그 활용 가능성을 확인하였다. 채널 물질로는 두께에 따른 밴드갭 의존성이 적은 multilayer ReS2를 사용하였고, In2O3 양자점 용액으로 도핑 정도를 조절하였다. N-type 도핑 특성을 확인하기 위해서 photoluminescence (PL)과 라만 분석을 수행하였으며, multilayer ReS2 전계 효과 트랜지스터(FET)를 제작하여 도핑 전후의 전기적 특성을 측정 및 비교 분석하였다.
저자 조혜란, 김규태
소속 고려대
키워드 양자점; FET
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