학회 | 한국공업화학회 |
학술대회 | 2021년 봄 (05/12 ~ 05/14, 부산 벡스코(BEXCO)) |
권호 | 25권 1호 |
발표분야 | 포스터-환경·에너지 |
제목 | 오존 산화 기반 반도체 공정 내 질소산화물 제거를 위한 고속산화 장치 설계 및 실증연구 |
초록 | 최근 4차 산업혁명에 따른 초연결 사회 구축의 일환으로 IoT 및 5G 연관기술에서 반도체 수요가 급증함에 따라 반도체 생산설비 및 공장에 크게 확대되고 있다. 이와 더불어 반도체 생산설비에서 발생하는 PFCs, NOx 및 CO 등 대기오염 물질의 처리를 위한 다양한 기술이 요구되고 있다. 기존에는 주로 스크러버를 이용하여 난분해성 가스를 처리하고 있으나 쉽게 분해되지 않는 특성으로 인해 고온의 제거가 필요하기에 추가적인 질소산화물 NOx가 발생하게 된다. 이를 환경규제 배출량에 따라 제거하기 위해 SCR 및 SNCR 방법을 이용하는데 이는 촉매의 활용 및 폐기나 많은 에너지 비용이 필요하다. 본 연구에서는 오존산화방법을 이용하여 질소산화물을 처리할 때 오존 농도, 폐가스의 처리량, 체류시간 등을 변수로 두어 질소산화물의 처리특성을 파악하고자 하였다. 실험실 규모의 기존 문헌 자료를 기반으로 공정을 모델링하여 Scale-up 하고 이를 5~10 CMM 규모에서 실증하였다. |
저자 | 홍기훈, 황상연, 엄성현 |
소속 | 고등기술(연) |
키워드 | 반도체 폐가스; 질소산화물; 오존산화; 고속산화 |