| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2020년 가을 (10/28 ~ 10/30, 광주 김대중컨벤션센터(Kimdaejung Convention Center)) |
| 권호 |
24권 1호 |
| 발표분야 |
[특별] 시스템 반도체 차세대 패키징 핵심소재 산업체 워크샵 |
| 제목 |
일본 수출규제 대응을 위한 포토레지스트 특허 전략 수립 |
| 초록 |
일본 수출규제 품목 중 포토레지스트(EUV용 포토레지스트) 소재에 대한 대응을 위해 특허 정보를 기반으로 해당 소재의 국산화 및 수입대체에 대한 전략을 수립하였다. 그 접근 방법론으로 CAR 타입의 주력 생산 일본 기업의 연구개발 경험을 특허정보 내의 성분 정보를 추출하고 이를 DB화 하여 정량적으로 분석함으로써, 앞서 개발한 기업의 노하우를 간접적으로 확인할 수 있는 기반을 구축하고 해당 DB의 심층 분석을 통해 최근 연구개발 트렌드를 반영한 시행착오를 최소화 하는 방향으로 연구개발 방향을 특허 정보를 기반으로 제안할 수 있었다. 본 연구에서 적용한 성분 DB를 기반으로 한 화학 소재의 레시피 제안에 대한 확산 효과를 기대한다. |
| 저자 |
이병화 |
| 소속 |
한국특허전략개발원 |
| 키워드 |
특허; 포토레지스트
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