화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 1999년 가을 (10/22 ~ 10/23, 경남대학교)
권호 5권 2호, p.4405
발표분야 재료
제목 회분식과 반회분식의 혼합공정을 이용한 단분산 SiO2 미립자 합성에 관한 연구
초록 본 연구에서는 졸-겔 공정에서의 silica 입자 생성에 관한 LaMer 이론과 Chen 이론에근거하여 입자의 핵 생성과 생성된 핵의 성장을 분리하여 단분산된 silica 입자를 합성하는데 그 목적을 두었다. 따라서, 암모늄 몰리브덴 적정법을 이용, LaMer 모델에서의 핵 생성이 끝나는 시간을 측정키 위해 UV 흡광도계를 통해 입자가 처음으로 생성되는 inductiontime을 관측함으로써 핵 생성 구간을 구하였다. 합성된 졸의 입도분포를 분석키 위해DLS(Dynamic Light Scattering)를 사용했고, SEM을 통해 입자의 응집과 크기를 살펴보았다. DLS 분석 결과, 회분식과 반회분식 공정으로 합성한 silica 입자의 입도분포보다 본 실험 방법으로 합성한 silica 입자의 입도분포가 양호한 것으로 나타났다.
저자 박성규, 김기도, 김희택
소속 한양대
키워드 암모늄 몰리브덴 적정법; DLS(Dynamic Light Scattering)
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