화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2008년 가을 (10/09 ~ 10/10, 일산킨텍스)
권호 33권 2호
발표분야 기능성 고분자
제목 Universal Block Copolymer Lithography for Metals, Semiconductors, Ceramics and Polymers
초록 블록공중합체는 스스로 다양한 모양과 크기의 나노구조를 형성하는 특성이 있어, 차세대 나노리소그라피용 소재로서 많은 관심을 끌고 있다. 하지만 기존의 블록공중합체 나노리소그라피 공정은 Si, SiO2, ITO와 같은 극히 한정된 기판에서만 적용된다는 치명적인 문제점을 가지고 있어 실질적인 활용에 제한이 있었다. 본 연구에서는 금속, 반도체, 세라믹 및 고분자 등 모든 물질에서 적용 가능한 블록공중합체 나노리소그라피 공정기술을 개발하였다. 이는 플루오르, 금, 비활성기체를 제외한 지구상의 존재하는 대부분의 물질 표면이 산소와 반응하여 산화막을 형성한다는 사실을 착안해, 산업에서 널리 사용되는 박막증착 공정기술과 블록공중합체 나노주형을 사용하여 TiO2, Pt, Cu, Co40Fe60, Si3N4, Polyimide 등 다양한 기능성 재료 위에서 블록공중합체가 형성이 가능하다는 것을 보여주었으며, 실제 블록공중합체를 나노주형으로 사용하여 다양한 기능성 나노구조 박막 제조가 가능함을 보여 주었다.
저자 정성준1, 김지은2, 김봉훈2, 신동옥2, xia guodong2, 박승학2, 이형민2, Nghiem2, Quoc Dat2, 권세훈2, 강상원2, 김상욱
소속 1한국과학기술원, 2kaist
키워드 block copolymer; self assembly; nanolithography; metals; semiconductors; ceramics; polymer
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