| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2014년 가을 (10/22 ~ 10/24, 대전 DCC) |
| 권호 | 20권 2호, p.2367 |
| 발표분야 | 환경 |
| 제목 | 반도체 폐가스 처리장치에서의 산성가스 및 입자물질 동시처리 기술 개발 |
| 초록 | 반도체용 스크러버에서는 반도체 제조공정 및 공정 폐가스의 처리과정에서 발생한 HF, HCl 등의 산성가스와 SiO2 등과 같은 입자물질들을 처리하기 위하여 습식 처리방식을 일반적으로 채용하고 있다. 한편, 반도체 공정의 고집적화와 대형화가 가속화되며, 처리 대상 가스의 양은 많아지는 반면, 배기가스의 규제는 매년 강화되고 있는 추세이므로 고효율 습식처리 장치의 필요성이 대두되고 있다. 이에 본 연구에서는 기존의 습식처리 방법들을 분류하고, 방볍별로 장치를 제작하여 각 장치 별로 산성가스 및 분진의 처리 효율 및 특성 평가하였다. 사용된 습식 처리 방식으로는 Packed-bed column, sprayed-chamber, tray-tower, revers jet scrubber, cyclone wet scrubber, voltex scrubber 를 대상으로 하였다. 이 후 각 방식의 특징들을 조합하고 최적화 하여 소형 고효율 습식처리장치의 개발을 목표로 한다. |
| 저자 | 이기용, 최수민, 김도훈, 정종국 |
| 소속 | 주)글로벌스탠다드테크놀로지 |
| 키워드 | Non-CO2; HF; HCl; Semiconductor; gas abatement |
| 원문파일 | 초록 보기 |
