| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2002년 가을 (10/11 ~ 10/12, 군산대학교) |
| 권호 | 27권 2호, p.26 |
| 발표분야 | 특별 심포지엄 |
| 제목 | LCD Color Filter용 Photoresist 제조 기술과 개발 현황 |
| 초록 | LCD Color Filter는 LCD에서 full color 구현을 위한 핵심부품으로서 glass substrate위에 red, green, blue로 이루어진 화소를 형성하고 있다. 이러한 미세 패턴의 형성에는 micro photolithography 기법이 이용되고 있고 이를 위하여 각종 photoresist가 필요하게 된다. Color Filter용 photoresist는 기본적으로 color를 구현하기 위한 red, green, blue의 color photoresist외에 최근에는 overcoat, patterned spacer등에 사용하기 위한 투명 photoresist 등 여러 가지를 포함한다. 본 발표에서는 주로 color photoresist의 제조 기술과 그 개발 현황에 대하여 살펴보고자 한다. 현재 color photoresist는 안료분산형 photoresist가 주종을 이루고 있으며 반도체용 PR과 달리 process 후에 그 차체가 부품의 역할을 하게 되기 때문에 일반적인 photoresist 특성 외에 내화학성, 내열성 등 공정 적합성이 추가로 요구된다. 최근에는 보다 높은 색재현율과, 휘도를 갖는 color photoresist의 개발이 요구되고 있으며 이의 해결을 위해서는 photochemistry 뿐만 아니라 binder polymer, dispersion technology 등의 기술이 종합적으로 요구되고 있다. |
| 저자 | 박상욱, 조진우, 시윤기, 안정애, 안용식, 김경준 |
| 소속 | LG화학(주) |
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