| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2005년 가을 (10/21 ~ 10/22, 인하대학교) |
| 권호 | 11권 2호, p.2574 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 솔-침전법에서 실리카 입자의 -OH 표면 농도 제어 |
| 초록 | 실리카 입자는 전자기재료, 광학재료, 촉매, 세라믹 등 많은 분야에서 사용되고 있는 기능성 소재로서, 입자의 크기, 형태, 내부 구조 등에 의해 물성이 좌우되기 때문에 이를 완전히 제어할 수 있는 기술이 확립되면 이상적인 기능성 소재의 설계가 가능 하다. 특히, 실리카 입자의 기능성은 표면의 silanol group 함량 및 특성에 의존한다. 예를 들면 실리카 입자 위에 PMMA, styrene 등의 polymer 코팅 시 입자표면의 -OH 농도에 따라 코팅의 특성이 달라진다. 따라서 실리카 입자 표면의 -OH농도를 제어할 필요가 있다. 본 연구에서는 sol-gel method를 이용한 단일분포의 구형 실리카 입자 제조 시 합성조건, 즉 TEOS의 농도, 암모니아/물 의 농도, 온도의 변화를 통해 표면의 –OH 농도를 제어하는 시도를 하였다. TGA(열중량분석기)를 통해 실리카 입자의 미 반응물 함량과 –OH 함량을 분석하였고, 아울러 BET측정을 통해 비표면적을 측정하였다. 이 결과로부터 실리카 입자표면의 –OH 농도를 계산하였다. |
| 저자 | 공성민, 김성수, 김진수, 김우식, 김수연 |
| 소속 | 경희대 |
| 키워드 | Silica; Silanol; Hydroxyl; Thermogravimetry; Sol- precipitation process |
| 원문파일 | 초록 보기 |
