| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2002년 봄 (04/26 ~ 04/27, 강원대학교) |
| 권호 | 8권 1호, p.2281 |
| 발표분야 | 고분자 |
| 제목 | 나노기공을 함유한 poly(organosilsesquioxane)의 제조 및 특성분석 |
| 초록 | 반도체 층간 절연막으로서 organosilicate 계열의 methylsilsesquioxane (MSSQ) 는 유전율이 약 2.7이며 고내열성, 내화학성 및 수분안정성으로 인하여 제 1세대 저 유전물질로서 활발한 연구가 진행되고 있다. 그러나 유전율이 약 2.2 이하인 다기공 초저유전체를 제조하는 경우에는 기공형성에 따른 기계적 물성저하로 인하여 CMP 공정상의 문제점이 발생하게 된다. 따라서 본 연구에서는 기계적 물성 및 기공형성수지 (porogen)과의 상용성 향상을 목적으 로 bistrimethoxysilane (BTMSE)를 도입하여 methyltrimethoxysilane (MTMS)와 공중 합하여 새로운 저유전체를 합성하였다. 제조된 BTMSE 공중합체는 BTMSE 단량체 함량 에 따라 극성말단기의 양을 조절할 수 있었으며 porogen과의 상용성을 향상시킬 수 있었 다. 경화 후 BTMSE 공중합체 박막은 MSSQ에 비하여 기계적 물성이 월등히 우수하였 으며, BTMSE 함량에 따라 기계적 물성이 증가하였다. 또한 BTMSE 공중합체와 상용 성이 우수한 poly(caprolactone) (PCL)계열의 porogen을 이용하여 나노기공을 함유한 초저유전체 BTMSE 공중합체를 제조하였다. 나노기공을 함유한 BTMSE 공중합체는 porog en 함량에 따라 굴절율 및 유전율이 일정하게 감소하였으며 이는 이론식과 대체적으로 잘 일치하였다. |
| 저자 | 민성규1, 박재만2, 송기태3, 진문영, 이진규, 차국헌, 윤도영, 이희우 |
| 소속 | 1서강대, 2한국화학(연), 3서울대 |
| 키워드 | 저유전체; 유전율; BTMSE 공중합체; 기공형성수지 |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
