| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2006년 봄 (05/19 ~ 05/20, 경상대학교 ) |
| 권호 |
12권 1호 |
| 발표분야 |
나노 및 생체재료 |
| 제목 |
나노임프린트 리소그래피를 통한 sub micron급 2차원 나노 패턴의 다층 구조물 제작에 관한 연구 |
| 초록 |
나노 임프린트 리소그래피 기술은 고집적된 나노 구조물을 경제적으로 형성시킬 수 있는 가장 유망한 차세대 리소그래피 기술로써 반도체 소자 뿐만 아니라 디스플레이, 바이오 소자, 광학 소자등 다양한 분야에 적용이 가능하다. 나노 임프린트 리소그래피 기술 중 하나인 reversal nanoimprint 기술은 기판 위에 폴리머층에 나노 패턴을 각인시키는 방식이 아니라 몰드 안에서 나노 패턴을 형성시킨 후 붙이는 방식으로 간단하게 2차원 나노 패턴의 다층 구조물을 구조를 형성시킬 수 있다. reversal nanoimprint 기술은 주로 몰드 위에 PMMA 등의 resin을 스핀 코팅하여 패턴 형성 후 붙이는 방식이지만 이 논문에서는 UV curable resin 및 Duo mold 기술을 이용하여 다층 구조 형성에 대해 연구하였다. 실험 내용은 우선 진공 챔버내에서 Quartz 또는 PDMS 몰드 위에 UV curable resin을 떨어뜨리고 이형처리가 되어있는 기판으로 누른 후 UV-NIL 공정을 통해 몰드 안에 폴리머를 채운 후 이형처리된 기판을 제거하였다. 이후 표면이 개질된 폴리머 패턴이 형성된 기판 위에 접착시켜 나노 패턴이 형성된 두 층을 접착시켰다. 또한 이형처리된 기판 외에 몰드를 사용함으로써 한번에 양면의 나노 패턴이 형성된 폴리머층을 형성시키는데 성공하였다. |
| 저자 |
한강수, 홍성훈, 이종화, 이 헌
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| 소속 |
고려대 |
| 키워드 |
nanoimprint lithography(NIL); reversal imprint
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