| 초록 |
분체 과학의 기술이 발전함에 따라 최소한의 결점을 갖는 고기능성 파인 세라믹 제품의 수요가 급증하고 있다. 이러한 세라믹 제품의 원료가 되는 세라믹 미립자를 제조하는 방법은 에어로졸 공정을 통하여 원하는 고순도의 입자 제조, 표면적이 넓은 입자등 완전한 물성을 갖는 미세한 입자를 얻을 수 있다. 에어로졸 반응기중 튜브형 가열로 반응기는 세라믹 분체 제조에 이론적 및 실험적 연구에 광범위하게 활용되고 있다. 본 연구에서는 튜브형 가열로 반응기에서의 반응 기체 예열 효과를 분석할수 있도록 튜브형 가열로 반응기 앞에 예열기를 설치하여 증착 구간에서의 초미세 SiO2 입자의 증착을 이루는 과정을 통하여 예열의 효과가 증착 특성, 입자 특성에미치는 영향에 관해 고찰하였다. 증착 구간의 내부 벽온도 분포를 농도, 유량, 반응 구간 온도변화에 따라 제어함으로써 SiCl4 전환률, SiO2 입자(크기, 농도)등의 증착 특성등을 고찰하였다. 본 연구에서의 공정 변수로서 예열기 온도, SiCl4 농도, 가열로 설정 온도, 전체 기체 유량 등을 선정하였으며 튜브형 가열로 반응기에서 생성되는 SiO2 입자의 부피 분율, SiCl4 농도, 반응기내 기체 온도, SiCl4 전환률 및 증착 효율을 이론적으로 고찰하였다.
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