| 학회 |
한국화학공학회 |
| 학술대회 |
2003년 봄 (04/25 ~ 04/26, 순천대학교) |
| 권호 |
9권 1호, p.1046 |
| 발표분야 |
재료 |
| 제목 |
고농도에서 입도 분포가 균일한 은 나노입자의 제조 |
| 초록 |
은 입자는 전자나 반도체의 미세 공정에서 전도성 코팅과 페이스트 등에 널리 활용되고 있으며, 최근 항균 특성을 활용한 신발이나 섬유, 의료용 재료, 페인트, 화장품 등의 부가가치가 높은 상품에 응용되고 있다. 특히 전자 산업의 경우 현재 수 마이크로 미터의 입자가 사용 되고 있으나, 전자 산업 분야 제품들이 고집적화 되어가면서 보다 더욱 작고 균일한 제품을 필요로 하게 되었다. 근래 은 나노 입자의 제조에 있어 많은 제조 방법이 제시되고 있지만, 대부분 저농도(은 이온 기준으로 10-3M~10-5M 범위)에서 입자를 제조하여 생산 공정에 적용하기에는 경제성이 떨어진다. 비록 고농도에서 입자를 제조 했던 경우라도 넓은 입도 분포 때문에 실제 사용하기에 어려움이 따른다. 따라서 본 연구에서는 은이온을 고농도로 함유하고 있는 수용액에서 100nm 이하의 고른 입자를 제조하는 방법을 제시했다. 균일한 은 입자의 제조를 위해서 씨드를 매개로 한(Seed mediated) 방법을 사용하였다. 은이온을 환원 시키는 방법은 입자의 착이온 형성과 유기/무기 환원제를 사용하여 미리 제조된 씨드의 표면에서 은 이온이 환원 되도록 하는 방법을 선택했다. 제조된 은 입자의 크기와 입도 분포와 결정성을 확인하기 위해 투과 전자 현미경(Transmission Electron Microscopy) 분석을 수행하였으며, 수용액상의 은 입자들이 환원 정도를 확인하기 위해서 원자 흡수 분광기(AAS)를 사용하였다. |
| 저자 |
김종호1, 윤창연1, 강성구1, 정경원2, 강민수2, 이종협1
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| 소속 |
1서울대, 2(주)대주정밀화학 |
| 키워드 |
은; 나노입자
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| E-Mail |
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