| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2016년 봄 (05/18 ~ 05/20, 여수 디오션리조트 ) |
| 권호 | 22권 1호 |
| 발표분야 | G. 나노/박막 재료 분과 |
| 제목 | High working pressure PECVD를 이용한 나노 박막 성장 기술 및 응용 |
| 초록 | High working pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition (HWP-PECVD) 장비는 고속으로 회전하는 전극과 기판사이에서 100 Torr이상의 공정압력에서도 안정한 플라즈마를 발생할 수 있다. 공정압력이 높기 때문에 처리속도 (에칭 및 증착)가 빠르고, 낮은 이온에너지로 기판의 손상을 줄일 수 있는 장점이 있다. 또한 균일한 가스 공급이 가능하기 때문에 대면적 생산이 용이하고, 연속적 생산이 가능하여 양산화에 적합한 공정으로 기대된다. 본 발표에서는 HWP-PECVD 장비를 활용하여 실리콘 박막 태양전지의 광흡수층인 미세결정질 실리콘 증착 분야와 반사방지막 보호막 증착 분야의 결과에 대해 소개하고자 한다. |
| 저자 | 권정대 |
| 소속 | 한국기계(연) |
| 키워드 | <P>High working pressure PECVD; 실리콘 박막 태양전지; 반사방지막</P> |
