| 초록 |
ZnO (Zinc Oxide)는 2-6족의 화합물 반도체로서 상온에서 3.3eV의 넓은 direct band-gap과 60mV의 높은 엑시톤 결합에너지를 가지고 있어 가스 센서, 포토 디텍터, 태양전지, LED 등으로의 응용 가능성이 높은 물질이다. 일반적으로 ZnO와 같은 세라믹 물질의 나노 패턴 형성을 위해서는 나노 패터닝 공정과 식각 공정의 최소 두가지 이상의 공정이 필요하다. 하지만, 본 연구에서 개발한 기술은 ZnO-sol을 이용한 나노 임프린트 리소그래피 공정을 통해 단번에 ZnO 나노 패턴을 제작할 수 있어 기존의 ZnO 나노 패터닝 기술에 비하여 값싸고 빠르게 ZnO 나노 패턴을 제작 할 수 있다. 먼저 Dow corning사의 Sylgard 184 A, B를 각각 10:1의 비율로 섞은 후 250~500nm 크기의 dot 패턴을 갖는 master template에 부어 100℃에서 1시간 동안 열처리하여 PDMS mold를 제작한다. ZnO-sol을 기판 위에 500~2000rpm으로 60초 동안 spin-coating 한 후 PDMS mold를 얹고 임프린팅 공정을 진행하여 ZnO-gel 패턴을 제작하였고 이를 500℃의 공기 분위기에서 1시간 동안 열처리하여 ZnO 나노 패턴을 제작하였다. 이를 SEM, XRD, Photoluminescence등을 이용하여 ZnO 나노 패턴의 형상과 결정 상태 등을 분석하였다. |
