화학공학소재연구정보센터
학회 한국공업화학회
학술대회 2011년 봄 (05/11 ~ 05/13, 제주국제컨벤션센터)
권호 15권 1호
발표분야 고분자
제목 광학용 난할로겐 고굴절 에폭시수지 합성 및 그 특성에 관한 연구
초록 TDP(4,4’-Thiodiphenol)를 원료로 하여 직접법(Taffy Process) 및 간접법(Fusion Process)의 방법으로 에폭시화 반응을 진행하여 광학용 고굴절 에폭시 수지를 합성하였으며, 그 합성물을 이용하여 AA(Acrylic Acid)를 부가반응시켜 고굴절 에폭시 아크릴레이트 올리고머를 합성하고 여러가지 분석을 통하여 조건에 따른 수지 물성의 변화를 확인하였다. 그 결과, 직접법의 몰비 조정을 통한 에폭시 수지의 합성은 TDP원료대비 ECH의 몰비가 높을수록 반응성에서 우수한 결과를 보였다. 간접법의 방법으로 합성된 고굴절 에폭시의 경우에는 분자내에 황원자의 개수가 증가함에 따라 굴절률이 1.635수준으로 직접법의 방법으로 합성된 에폭시보다 높은 결과를 보였다. 에폭시 수지를 아크릴레이트시켜 UV경화용 에폭시 아크릴레이트 올리고머를 합성한 경우에는, 굴절률 또한 초기에 급격히 상승이 되고, 어느 정도 반응이 진행되면, 굴절률에서도 큰 차이가 없음을 확인하였다.
저자 최호경1, 박용의1, 나재식2
소속 1신아티앤씨, 2광운대
키워드 고굴절 에폭시; 4; 4’-티오다이페놀; 고굴절 에폭시 아크릴레이트; 난할로겐; 광학 필름; 직접법; 간접법
E-Mail