| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2004년 가을 (10/29 ~ 10/30, 호서대학교(아산캠퍼스)) |
| 권호 | 10권 2호, p.2159 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 펄스 플라즈마 공정에서의 플라즈마 화학 분석 |
| 초록 | 증착, 에칭, 스퍼터링과 같은 반도체 제조 공정에 널리 이용되고 있는 플라즈마 공정은 공정조건에 따라 nanometer에서 micron까지의 입자들이 생성되는 것으로 알려져 있다. 최근 연구에 의하면 플라즈마 반응기내에서 미립자 생성은 펄스 플라즈마의 사용으로 상당히 억제될 수 있음이 보고된 바 있다. 펄스 플라즈마 공정에서는 반복적인 plasma-on/-off로 모노머에 비해 큰 부피를 갖는 이온 혹은 클러스터의 생성이 억제되므로 주로 모노머에 의한 초미세 박막제조 및 나노입자 코팅에 활용될 수 있다. Timmons 그룹은 펄스 플라즈마 공정을 이용하여 향후 초고직접 반도체 회로에 사용되는 저유전상수를 갖는 초미세 박막을 제조하였다. 본 연구에서는 펄스 플라즈마 공정에서의 플라즈마 화학을 공정변수 변화에 따라 모델식을 사용하여 분석하였다. |
| 저자 | 김교선, 김동주 |
| 소속 | 강원대 |
| 키워드 | 펄스 플라즈마 공정; 플라즈마 화학; 나노 입자 코팅; 박막 |
| 원문파일 | 초록 보기 |
