| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2003년 봄 (04/25 ~ 04/26, 순천대학교) |
| 권호 | 9권 1호, p.1093 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | FBAR 소자제작을 위한 Patterning 공정 연구 |
| 초록 | Si3N4을 Etch-Stop 으로 하여 Back-etching공정을 통해 Si membrane 을 제작하고 상부에 Al/ZnO/Al 구조의 resonator를 구성하여 FBAR소자를 제작하였다. RIE공정으로 Si3N4 Patterning과 KOH식각으로 membrane 구조를 형성하였고,Al 증착, 사진식각공정, Al증착, ZnO 증착 후 Lift-Off 공정으로 Patterning을 형성하였다. |
| 저자 | 최승혁, 김종성 |
| 소속 | 경원대 |
| 키워드 | FBAR |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
