초록 |
자기충족장이론(scft)를 이용하여 나노구조를 가지는 AB이중블록공중합체와 C고분자 혼합물의 벌크상과 필름에서의 모폴로지 변화를 연구하였다. A와 B고분자는 분율이 비슷하거나 B고분자가 상대적으로 매우 낮은 분율을 갖도록 설정하였으며, C고분자는 용매의 역할을 하도록 하였다. 이 때 B고분자는 표면 선택성을 갖도록 하였다. 또한, 용융 상태에서의 A/B/C고분자의 혼입을 통한 구조변화를 연구하였다. 이 때, A와 C의 분율에 비해 B고분자가 상대적으로 많은 분율을 가지며, C고분자는 용매로 작용하도록 설정하였다. 이 조건에서 별형과 망상형 사각형태의 ABC 블록공중합체의 나노구조화를 연구하였다. 위와 같은 조건에서 유효인력을 변수로 각 고분자들의 구조변화가 유도되도록 장이론 모사를 수행하였으며, 각 고분자 성분 사이의 유효인력 변화에 의해 블록공중합체의 나노구조의 평형상 변화를 통하여 bottom-up microelectronic process에의 수동형 패턴소재 응용을 지향하는 다양한 나노패턴의 설계를 제시하도록 하였다. |