| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2011년 봄 (05/11 ~ 05/13, 제주국제컨벤션센터) |
| 권호 |
15권 1호 |
| 발표분야 |
나노 |
| 제목 |
Soft-lithography를 이용한 nano pattern의 제작과 응용 |
| 초록 |
고온 고압의 실험조건을 필요로 하는 Imprinting-lithography에 비해 1990년대 후반 개발된 Soft-lithography 기술은 기존의 딱딱한 master mold 대신 탄성을 가지는 고분자 물질을 이용함으로써 보다 광범위한 이용이 가능해지게 되었다. 본 연구에서는Poly(dimethylsiloxane: PDMS) stamp를 이용하여 disk-media로부터 일정한 간격을 가지는 나노패턴을 제작하고 미세접촉 인쇄기법(microcontact printing, μCP)을 이용하여 Octadecyltrichlorosilane(OTS) 패턴을 형성하였다. 형성된 패턴위에 500nm의 크기를 가지는 Polystyrene beads를 배열하여 나노구조체를 완성하였다. 만들어진 구조체는 AFM을 통해 표면을 관찰하였고 응용분야에 관하여 검토하였다. |
| 저자 |
강성모, 장상목, 김종민
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| 소속 |
동아대 |
| 키워드 |
lithography; nano pattern; μCP; PDMS
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