화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2007년 봄 (04/12 ~ 04/13, 제주 ICC)
권호 32권 1호
발표분야 고분자 가공/복합재료
제목 알칼리현상형 감광성 수지를 이용한 low tolerance 후막 저항체 구현
초록 본 연구에서는 알칼리 용액에 현상이 가능한 감광성 수지를 이용하여 폴리머 후막 저항 페이스트를 제작하고 이를 도포하는 방법을 개선하여 저항값의 tolerance가 10% 이하인 embedded PCB 기판용 저항체를 구현하는 연구를 수행하였다. 기존의 PCB 기판용 폴리머 후막저항은 후막페이스트를 스크린 인쇄하여 기판상에 형성한 후 이를 열경화하여 제작되었다. 스크린인쇄에 의한 저항값의 tolerance는 통상 20~30% 정도로 후공정에서의 레이저 트리밍을 필수적으로 동반하게 된다. 이러한 단점을 극복하기 위하여, 감광성 수지를 이용하여 저항 페이스트를 제조하고 포토공정으로 패터닝하는 방법과 균일한 두께의 저항막을 형성하기 위하여 Roll을 이용하여 페이스트를 코팅하는 방법을 개발하였다. 테스트 보드로는 니켈도금된 동박을 패터닝하여 전극이 형성되어 있는 FR-4 기판을 이용하였으며, 페이스트 전면 도포 후 노광 및 현상을 통하여 저항체를 패터닝하고, 이를 200도에서 1시간 열처리하여 제작하였다. 그 결과로 스크린 인쇄에서 나타나는 방향성있는 위치 편차를 해결하고 최저 5% 수준의 tolerance를 달성할 수 있었다.
저자 박성대1, 박세훈1, 강남기1, 김동국2
소속 1전자부품(연), 2한양대
키워드 photosensitive; resistor; paste; alkali-developable; tolerance
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