| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2005년 가을 (10/28 ~ 10/29, 건국대학교) |
| 권호 | 9권 2호 |
| 발표분야 | 정보,전자소재 |
| 제목 | 고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 IrRu 박막의 식각 특성 |
| 초록 | 일반적으로 platinum (Pt)은 ferroelectric random access memory의 capacitor 구조에서 electrode로써 사용되어 왔다. 그러나 Pt는 패터닝 공정이 어렵고 전기적 특성이 좋지 않은 단점을 보이고 있다. 따라서 Pt를 대신하여 iridium (Ir) 또는 ruthenium (Ru)등의 대체 전극 물질이 고려되었으며, 연구 결과에 따르면 Ir 박막은 식각 시에 재증착은 없으나 식각경사가 뛰어나지 않는 단점이 있고 Ru 박막은 식각경사는 좋지만 식각 시 재증착의 단점이 있다. 따라서 두 박막의 단점들을 보완하기 위해서 IrRu의 합금이 electrode로써 새로이 대두되고 있다. 본 연구에서는 고밀도 유도결합 플라즈마(high density inductively coupled plasma)를 이용하여 IrRu 박막의 식각특성을 관찰하고자 하였다. IrRu 박막의 식각을 위해서 hard mask로써 titanium nitride 박막이 선택되었다. |
| 저자 | 이장우, 박익현, 정지원 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | IrRu; TiN; 식각; 고밀도 유도결합 플라즈마; electrode |
