| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 가을 (10/22 ~ 10/23, 경남대학교) |
| 권호 | 5권 2호, p.2569 |
| 발표분야 | 공정시스템 |
| 제목 | 유전 알고리즘을 이용한 Multi-Nozzle System의 최적설계 |
| 초록 | 본 연구에서는 최근 최적화 방법에서 각광 받고있는 유전 알고리즘을 이용하여 Shadow mask 식각공정의 최적 설계를 수행하였다. 공정 변수-파이프 간격, 노즐 간격, 요동각, 요동 속도 등-들을 갖고 있다. 그리고, 현장 데이터와 유사한 분사 데이터를 얻기 위해 전산 유체 해석 프로그램(CFD)인 ’Star-cd’를 이용하였다. 일반적으로 분사식 노즐장치의 목적은 분포의 균일성을 얻는 것이므로 본 연구에서는 분사된 액적의 산포도를 나타내는 변이계수(표준편차/평균)의 최소화를 목적함수로 사용하였다. 마지막으로 유전 알고리즘의 계산 결과로부터 최적 경우와 제일 나쁜 경우 사이에 큰 차이가 있음을 알 수 있었다. |
| 저자 | 김병철, 손세훈, 박상대, 정재학, 이문용 |
| 소속 | 영남대 |
| 키워드 | Genetic Algorithm; Etching; Optimization |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
