| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2000년 가을 (10/20 ~ 10/21, 포항공과대학교) |
| 권호 | 6권 2호, p.4845 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | Shadow Mask 식각용액의 재생공정에 관한 연구 |
| 초록 | 본 연구에서는 산화제(O2 & H2O2)가 etchant의 피로도 강하에 미치는 영향을 조사하였고 이를 실제 양산 공정에 적용시키기 위한 실험 data를 수집하였다. H2O2의 희석농도에 따른 etchant의 피로도 변화를 실험적으로 관찰하였고 etchant에 H2O2를 투입한 후 미반응 과산화수소의 잔류 여부를 확인하였으며 반응속도상수를 추출하기 위한 실험도 실시하였다. 이를 통해 양산 공정 개발시 요구되는 scale-up time을 최소화할 수 있는 기초 data를 제공하였다. |
| 저자 | 이재국, 이준호, 이근우, 박진호 |
| 소속 | 영남대 |
| 키워드 | |
| 원문파일 | 초록 보기 |
