| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 가을 (10/19 ~ 10/20, 한밭대학교) |
| 권호 | 7권 2호, p.5015 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 알루미나 표면에서의 Poly(acrylic acid) 흡착 특성과 pH가 알루미나 분산액의 안정성에 미치는 영향 |
| 초록 | 금속 CMP 공정에서 쓰이는 알루미나 슬러리의 안정성은 CMP 공정의 효율에 영향을 끼친다. 따라서 이 슬러리의 안정화가 필수적이며, 이를 위해 본 연구에서는 polyacrylic acid를 알루미나 표면에 흡착시킴으로써 입자를 안정화시키는 연구를 하였다. 또한, 고분자 흡착에 있어서 pH가 흡착 거동에 미치는 영향과 안정화에 미치는 영향에 대해서도 고찰하였다. |
| 저자 | 전상준, 홍원희 |
| 소속 | 한국과학기술원 화학공학과 |
| 키워드 | alumina; suspension; adsorption; stability |
| 원문파일 | 초록 보기 |
