화학공학소재연구정보센터
학회 한국재료학회
학술대회 2004년 봄 (05/14 ~ 05/14, 강릉대학교)
권호 10권 1호
발표분야 반도체 II (화합물)
제목 MOCVD법으로 버퍼층을 활용한 ZnO 박막 제조
초록 ZnO 박막은 그 동안 난제로 여겨진 p형 도핑방법이 점차 알려지면서 발광소자 재료로 적용 가능성이 한층 더 주목받고 있다. ZnO는 발광 스펙트럼(PL) 피크의 날카로움, 높은 free exciton 결합에너지, 방사선 노출에 대한 큰 내구성, 소자 제조를 위해 습식 식각이 가능하며, ZnO 단결정 기판 사용이 가능함으로써 에피탁시 품질을 최대화 할 수 있는 등 여러 가지 장점을 가지고 있어 국내외에서 ZnO 박막제조에 관련된 많은 연구들이 진행되고 있다.
본 연구에서는 Al2O3(0001) 단결정 기판위에 저온에서 성장된 버퍼층과 고온에서 성장된 동종버퍼층(homo buffer layer)을 활용해서 결정성 및 미세구조 그리고 광학적 측면에서 우수한 ZnO 박막을 제조하는 실험을 실시하였다.
저온 버퍼와 달리 고온버퍼를 활용할 경우에 ZnO 박막의 표면 평활도 뿐만 아니라 결정 배향성에도 매우 유리함을 확인하였다.
저자 박재영, 이동주, 윤영수, 문종하, 이병택, 김상섭
소속 전남대
키워드 ZnO thin film; MOCVD; homo buffer layer;
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