| 초록 |
나노 임프린트 리소그래피는 간단한 공정으로 나노 패턴을 대면적에 구현할 수 있고 고가의 노광장비가 필요하지 않아 상업적으로 많은 응용이 예상되는 기술이다. 하지만 나노 임프린트가 상용화되기 위해서는 포토리소그래피나 전자빔리소그래피 등의 기술로 제작되는 고가의 몰드제작 문제를 해결해야 한다. 본 연구에서는 나노 임프린트 공정과 자기정렬 Au islands를 이용하여 다양한 나노 패턴을 제작하였으며 이를 나노 임프린트 용 몰드로 활용하였다. 열 임프린팅 공정을 통하여 Si oxide/Si 기판위에 잔여층이 없는 폴리머 패턴을 형성한 후 Au를 50~200 Å 증착하고 리프트-오프하여 Au 패턴을 형성하였다. 이 후, 수백 ℃의 온도에서 Au 막의 응집현상을 이용하여 수 마이크론 급의 Au dot 패턴 안에 50~100 nm 크기의 나노 패턴이 혼재되어 있는 Au islands 패턴을 형성하였다. 형성되는 Au islands의 크기는 증착되는 Au 막의 두께와 열처리조건으로 결정되는 경향을 보였으며, 이를 조절하여 임프린트 몰드의 sub-마이크론 크기의 패턴보다 더 작고 조밀한 Au 패턴을 형성하는데도 성공하였다. 이러한 방법으로 Si oxide/Si 기판위에 형성된 Au islands 패턴을 식각 마스크로 이용하여 하부 Si oxide 층을 식각하였으며, 그 결과 다양한 구조의 나노 패턴이 형성된 몰드를 제작하였다. |
