| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2018년 봄 (05/02 ~ 05/04, 대구 엑스코(EXCO)) |
| 권호 | 22권 1호 |
| 발표분야 | 전기화학_포스터 |
| 제목 | Pulse-electroplating을 통한 3가 크롬 도금막의 물성 향상 연구 |
| 초록 | 크롬 도금은 내부식성 및 내마모성이 우수하며 경도가 높고 푸른빛을 띄는 광택이 특징이다. 그렇기 때문에 장식이나 자동차 내장재, 반도체 공정 부품 등 다양한 분야에서 광범위하게 이용되고 있다. 크롬도금을 위해서는 일반적으로 6가 크롬을 이용해 도금을하는데 최근 유럽에서 6가크롬 사용에대한 규제가 증대됨에 따라 이를 대체하기위한 도금 연구가 활발하다. 본 연구에서는 6가 크롬 도금을 대체하기위해 보다 친환경적인 3가 크롬을 이용해 6가크롬을 이용한 도금층 만큼 좋은 물성을 갖는 박막을 얻기위해 연구를 진행하였다. 도금방법은 실제공정에서는 Direct Current를 이용한 도금이 일반적인데, 더 좋은 박막을 얻어내야 하기 때문에 Pulse-electroplating을 이용해 도금을 진행하였다. 먼저 광택을 얻을 수 있는 전류 범위를 한정하기위해 DC를 이용해 다양한 전류밀도 범위에서 실험을 진행하였다. 그리고 더 좋은 박막층을 형성시키기 위해 전류를 교대로 인가하는 pulse-electroplating 방법을 이용하였으며, 기존 공정에서 쓰이는 DC와의 물성을 비교하였다. |
| 저자 | 임채원, 손수민, 임동욱, 오은택, 백성현 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | Chromium electroplating; Pulse-electroplating; Trivalent Chromium |
