| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2003년 가을 (10/10 ~ 10/11, 부경대학교) |
| 권호 |
28권 2호, p.413 |
| 발표분야 |
특별 심포지엄 |
| 제목 |
Preferation of Silica-Gold Nanopatterning using Bottom-up Method |
| 초록 |
최근 실리콘웨이퍼를 이용한 20nm급 나노 트랜지스터기술을 발표하였다. 이러한 기술을 가능케하는 방법들로는 전자빔리쏘그라피, 포토리쏘그라피 등과 같은 top-down 방법을 이용한 3차원 나노구조 제어에 의해서이다. 하지만 이러한 방법들은 설비기계가 고가이며 복잡한 공정을 거쳐야 제품의 생산이 가능하다는 단점이 있다. 3차원 나노구조 제어시 나타나는 기존의 단점을 극복하고자 본 연구에서는 Bottom-up 방법을 이용하여 블록고분자의 자기조립, 자기인식 및 자기제어적 성장 개념을 바탕으로 간단한 설비와 제조 방법으로 2성분의 금과 실리카의 3차원 나노구조를 동시에 제어하는 기술을 개발하였다. 본 발표에서는 2성분 물질의 3차원 나노구조를 동시 제어 기술에 대하여 보고하고자 한다.
|
| 저자 |
정성기, 조규진
|
| 소속 |
순천대 |
| 키워드 |
Bottom-up method; Block Copolymer; gold; silica; nanopatterning
|
| E-Mail |
|
