| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2008년 봄 (05/22 ~ 05/23, 상록리조트) |
| 권호 |
14권 1호 |
| 발표분야 |
구조재료 |
| 제목 |
D.C magnetron sputter법으로 증착된 TiAlN의 중간층에 따른 특성연구 |
| 초록 |
현재 각종 산업용 부품산업이나 기계공업의 발전은 절삭공구산업의 발전과 함께 급격한 신장을 보이고 있다. 최근 산업의 고도화와 함께 주목을 받고 있는 공구재료는 알루미나계, 질화규소계, 탄화물계, 질화물계, 다이아몬드 등이다. 이 중에서도 TiAlN 박막은 고온내산화성이 뛰어나 건식가공에 매우 유용하다. 이에 본 연구에서는 D.C magnetron sputter법으로 증착된 TiAlN 코팅층의 중간층에 따른 특성에 관하여 연구하였다. TiAlN 코팅층을 형성하기 위하여 온도는 300℃, 공정압력은 5mtorr, bias 전압은 -100V, sputter power는 400W 에서 실험을 실시하였다. TiAl, TiN, CrN을 중간층으로 하고 각각의 중간층에 따른 TiAlN의 특성 변화를 연구하였다. 코팅층의 결정성을 조사하기 위하여 X-ray diffraction(XRD)을 하였고 코팅층의 표면과 파괴단면 및 두께는 Scanning Electron Microscope(SEM)을 이용하여 관찰을 하였으며 조성분석을 위하여 Energy Dispersive Spectroscopy(EDS) 분석 등을 하였다. |
| 저자 |
김명호1, 이도재1, 이광민1, 조승유2, 이경구3
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| 소속 |
1전남대, 2(주)남도테크, 3(재)광주테크노파크 |
| 키워드 |
sputter; TiAlN
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| E-Mail |
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