화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2002년 가을 (10/24 ~ 10/26, 서울대학교)
권호 8권 2호, p.2925
발표분야 공정시스템
제목 커널 부분최소자승법을 이용한 화학공정의 모니터링
초록 본 연구는 화학공정의 추론모델 개발에 널리 이용되고 있는 다변량 통계기법인 부분최소자승법을 비선형으로 확장한 커널 부분최소자승법을 이용하여 Tennesse Eastman 공정의 모니터링에 적용하였다. 22개의 측정변수를 입력변수로, 19개의 조성측정변수를 출력모델로 사용하여 공정의 비선형을 표현할수 있는 커널 부분최소자승 모델을 구성하고 이를 이용해 이상진단을 수행하였다.
저자 송상옥, 이동언, 김구회, 윤인섭
소속 서울대
키워드 Partial Least Squares; Kernel PLS; Process Monitoring
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