| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2011년 봄 (04/27 ~ 04/29, 창원컨벤션센터) |
| 권호 | 17권 1호, p.821 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | Soft-lithography를 이용한 nano pattern의 제작과 응용 |
| 초록 | 1990년대 중반 이후 Whitesides에 의해개발된 Soft-lithography 기술은 기존의 Imprinting-lithography에 비해 전 처리과정이 없고, 고온 고압 등의 혹독한 실험조건을 요구하지 않는다. 또한 탄성체의 고분자 물질을 이용함으로써 기존의 Photo-lithography에서는 불가능했던 공정이 단순·신속화가 가능해짐으로 다양한 산업분야에서 이용되고 있다. 본 연구에서는 Poly(dimethylsiloxane: PDMS)를 이용한 복제 성형법(replica molding, REM)을 통해 여러 종류의 Disk-media로 부터 각기 다른 나노패턴을 제작 하였다. 생성된 패턴은 Octadecyltrichlorosilane(OTS)을 매질로 하는 미세접촉 인쇄기법(microcontact printing, μCP)으로 유리표면에 전사하여 AFM을 통해 표면을 관찰하였고nano pattern으로 응용가능성에 대해서도 검토하였다. |
| 저자 | 강성모, 장상목, 김종민 |
| 소속 | 동아대 |
| 키워드 | lithography; nano pattern; PDMS |
| 원문파일 | 초록 보기 |
