학회 | 한국고분자학회 |
학술대회 | 2002년 봄 (04/12 ~ 04/13, 서울대학교) |
권호 | 27권 1호, p.258 |
발표분야 | 기능성 고분자 |
제목 | Waveguide용 Low RI material인 Polysiloxane의 합성 및 경화거동에 관한 연구 |
초록 | Optical device용 Low RI material에 대한 관심이 높아지고 있는 가운데 고내열성과 낮은 Refl- ective Index의 특성을 갖고있는 Organosiloxne에 대한 관심 또한 증대하고 있다. 본 연구에서는 이런 특성을 가진 organosiloxane을 dichlorodimethylsilane(DCDMS)과 dich- loromethylphenylsilane(DCMPS)을 이용하여 공중합체를 합성하였고, 합성된 공중합체를 NMR 분석을 통하여 각각 monomer 조성비를 확인하였으며, 공중합 조성비에 따라 1.40 - 1.55 (@632)대의 다양한 굴절율을 갖는 선형의 공중합체를 얻었다. 또 합성된 선형 공중합체의 -diol기를 tetraethoxysilane(crosslinker)과 다양한 crosslinker agent를 사용 ondensation reaction을 통하여 경화시켰다. 경화된 polysiloxane을 DSC, TGA 등을 이용한 열분석을 통하여 경화된 polysiloxane이 우수한 열적 특성을 나타낸다는 것을 확인하였다. |
저자 | 김종진1, 박병철2, 김진봉, 김종화* |
소속 | 1전남대, 2*(주)PPI |
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