화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2002년 봄 (04/12 ~ 04/13, 서울대학교)
권호 27권 1호, p.258
발표분야 기능성 고분자
제목 Waveguide용 Low RI material인 Polysiloxane의 합성 및 경화거동에 관한 연구
초록 Optical device용 Low RI material에 대한 관심이 높아지고 있는 가운데 고내열성과 낮은 Refl- ective Index의 특성을 갖고있는 Organosiloxne에 대한 관심 또한 증대하고 있다.
본 연구에서는 이런 특성을 가진 organosiloxane을 dichlorodimethylsilane(DCDMS)과 dich- loromethylphenylsilane(DCMPS)을 이용하여 공중합체를 합성하였고, 합성된 공중합체를 NMR 분석을 통하여 각각 monomer 조성비를 확인하였으며, 공중합 조성비에 따라 1.40 - 1.55 (@632)대의 다양한 굴절율을 갖는 선형의 공중합체를 얻었다. 또 합성된 선형 공중합체의 -diol기를 tetraethoxysilane(crosslinker)과 다양한 crosslinker agent를 사용 ondensation reaction을 통하여 경화시켰다. 경화된 polysiloxane을 DSC, TGA 등을 이용한 열분석을 통하여 경화된 polysiloxane이 우수한 열적 특성을 나타낸다는 것을 확인하였다.
저자 김종진1, 박병철2, 김진봉, 김종화*
소속 1전남대, 2*(주)PPI
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