| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2010년 봄 (04/08 ~ 04/09, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 35권 1호 |
| 발표분야 | 고분자 구조 및 물성 |
| 제목 | Depth profiling of UV curable coatings by FT-IR spectroscopy |
| 초록 | Photoresist의 주요 성분으로 사용되는 multifunctional acrylate는 경화 조건에 따라 재료의 화학적, 물리적 성질에 중요한 영향을 미친다. 특히, UV 경화 시 코팅 층 깊이 방향에 따른 acrylate C=C 이중결합의 분포는 수지층의 표면과 내부의 특성을 결정하게 된다. 본 연구에서는 acrylate C=C 이중결합의 깊이 방향에 따른 전환율을 평가하기 위해 reflectance와 variable angle ATR technique을 이용하였다. 감광성 재료에 UV를 조사함에 따라 전환율이 증가하게 되며, 이때 photobleaching 현상에 의해 UV penetration depth가 증가하는 것이 확인되었다. Depth profiling 결과 표면에서 상대적으로 낮은 전환율이 확인되었는데, 이는 산소의 반응 저해 효과에 기인하는 것으로 판단되었다. |
| 저자 | 이석진, 이창순, 이건우, 정연욱, 오성준 |
| 소속 | LG화학 기술(연) |
| 키워드 | FT-IR; photopolymerization; depth profiling |
