| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 봄 (04/23 ~ 04/24, 성균관대학교) |
| 권호 | 5권 1호, p.1617 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 반도체 제조용 실란 PCVD 반응기에서의 입자 오염 |
| 초록 | 본 연구에서는 실란 PCVD 반응기 내에서 입자 거동과 성장을 모델식을 사용하여 이론적으로 고찰하였다. 반응기 내에서 공정 변수가 입자 거동이 미치는 영향을 분석하기 위해 전체 기체유량 및 전기장의 세기 등을 변화시켰다. 벌크플라즈마 영역에서 입자 성장을 위한 모델식에는 응집에 의한 입자 성장의 영향을 고려하였으며 초기입자 크기 변화에 따른 입자 성장의 영향을 분석하였다. |
| 저자 | 김동주, 김교선 |
| 소속 | 강원대 |
| 키워드 | Semiconductor; PCVD; Particle Movement; Particle Growth; Gaussian Charge Distribution |
| 원문파일 | 초록 보기 |
