| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 가을 (10/22 ~ 10/23, 경남대학교) |
| 권호 | 5권 2호, p.4489 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 뒤집힌 단일웨이퍼 반응기에서 클로로실란으로부터 실리콘 화학증착 |
| 초록 | 뒤집힌 단일웨이퍼 반응기에서 클로로실란으로부터 Si 화학증착에 관한 이론적 연구를실시하였다. 다양한 운전조건에서 박막증착속도와 균일성을 조사하였다. 반응물의 농도가 웨이퍼 근처에서 상당히 변하는 것으로 나타났다. 유량이 증가함에 따라 증착속도는 감소하였다. |
| 저자 | 김철진, 김의정 |
| 소속 | 울산대 |
| 키워드 | CVD; Si Films; Chlorosilanes |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
