| 초록 |
반도체 제조공정시 배출가스 중 식각(etching) 및 증착(CVD) 공정에 사용되는 함불소 화합물인 PFCs (Perfluorocompounds)가 차지하는 비중이 크며, 환경적 문제가 되고 있다. PFC 제거를 위한 기술들은 크게 i) PSA 및 분리막을 이용한 분리회수분야와 ii) 플라즈마, 연소 및 촉매를 이용한 분해제거분야로 나누어 연구가 진행되고 있다. 그러나 분리회수를 통한 제거 기술은 분리 후에도 처리 문제등의 문제가 잔존하게 된다. 이에 따라 환경오염을 최소화 할 수 있는 대책으로 PFC의 분해를 800oC 이하의 저온에서 유도할 수 있는 저온 촉매 산화기술 및 분해 시 생성되는 HF와 같은 고 농도 유해 분해물을 동시에 고형분 형태로 흡착 제거할 수 있는 Burn-Dry Scrubbing 시스템 개발이 요구되고 있다. 본 연구에서는 PFC 분해 시 생성되는 HF 제거를 위해 CaO/Al2O3 흡착제 상에서의 기체-고체 반응에 대한 현상을 살펴보고자 한다. Al2O3를 담체로 여러 가지 칼슘전구체를 사용하여 함침법으로 제조한 흡착제를 고정층 반응기를 사용하여 반응온도 및 접촉 시간에 따른 HF-CaO/Al2O3 기체-고체 반응에 대해 살펴 보았다. 기체-고체 반응 전·후의 흡착제 특성 분석을 위하여 X-선 회절 분석, 질소 흡착에 의한 비표면적, 기공부피, 기공크기 변화, XPS 분석, 원소분석, TGA/DTA 분석 등을 행하였다.
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