| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2007년 봄 (05/11 ~ 05/12, 계명대학교) |
| 권호 | 11권 1호 |
| 발표분야 | 콜로이드계면화학 |
| 제목 | 실리콘의 표면 상태가 실리카 입자 제조 공정에 미치는 영향 |
| 초록 | 실리콘의 직접산화법으로 실리카졸을 제조하는 공정에서 원료인 실리콘의 입자크기, 순도, 실리콘의 표면 특성이 실리카졸 입자 성장에 미치는 영향을 알아보았다. 97~99.96% 순도, 평균입도가 다른 8가지 실리콘을 출발물질로 원료의 열처리 시간을 달리하였을 때, 실리콘의 표면 산화막 형성이 실리카졸의 입자 성장에 더 유리한 조건을 제공하는 것을 관찰하였고, 특히 입도가 작은 원료에서 그 효과는 현저하게 나타났다. |
| 저자 | 나원균1, 임형미1, 허수현2, 박상언3, 이승호1 |
| 소속 | 1요업기술원 나노소재응용본부 복합재료팀, 2(주)영일화성, 3인하대 |
| 키워드 | 직접산화법; 실리콘의 입도; 실리콘 표면 산화; 산화막의 두께; 실리카졸 |
